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    半導體裝備

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    化學氣相沉積設備

    化學氣相沉積(CVD)技術是用來制備高純、高性能固體薄膜的主要技術。典型的CVD工藝過程是把一種或多種蒸汽源原子或分子引入腔室中,在外部能量作用下發生化學反應并在襯底表面形成所需薄膜的一種方法。由于CVD技術具有成膜范圍廣、重現性好等優點,被廣泛用于多種不同形態的成膜。   

    北方華創憑借二十余年的半導體基礎產品領域工藝設備研發經驗,致力于為集成電路、半導體照明、微機電系統、功率半導體、化合物半導體、新能源光伏等領域提供各種類型的CVD設備,滿足客戶的多種制造工藝需求。北方華創自主開發的臥式PECVD 已成功進入海外市場,為多家國際先進光伏制造廠提供解決方案。而硅外延設備在感應加熱高溫控制技術、氣流場、溫度場模擬仿真技術等方面取得了重大的突破,達成了優秀的外延工藝結果,獲得多家國內主流生產線批量采購。面向LED領域介質膜沉積的PECVD設備,憑借優秀的工藝性能和產能優勢,已成為LED客戶擴產優選設備。面向化合物半導體領域,碳化硅外延設備的各項技術指標也均已達到行業先進水平,批量機臺已在各大主流廠商實現穩定量產。

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