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    半導體裝備

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    物理氣相沉積設備

    磁控濺射技術屬于PVD(物理氣相沉積)技術的一種,是制備薄膜材料的重要方法之一。它是利用帶電荷的粒子在電場中加速后具有一定動能的特點,將離子引向被濺射的物質制成的靶電極(陰極),并將靶材原子濺射出來使其沿著一定的方向運動到襯底并在襯底上沉積成膜的方法。磁控濺射設備使得鍍膜厚度及均勻性可控,且制備的薄膜致密性好、粘結力強及純凈度高,該技術已經成為制備各種功能薄膜的重要手段。   

    通過不斷突破包括濺射源設計、等離子產生與控制、顆??刂?、腔室設計與仿真模擬、軟件控制等在內的多項關鍵技術,北方華創建立起了核心技術優勢,設備應用跨越多個技術代,代表著國產集成電路薄膜制備工藝設備的較高水平。此外,北方華創PVD設備技術也延伸應用于先進封裝、半導體照明等領域,多款PVD產品均已實現產業化應用。

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