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    真空裝備

    首頁 產品&服務 真空裝備 化學氣相沉積工藝設備

    化學氣相沉積工藝設備

      化學氣相沉積(CVD)設備是采用化學氣相沉積工藝在襯底表面生成高純致密、高性能的涂層薄膜的熱工設備。CVD技術具有沉積速率高、成膜易控制、均勻性和重復性好、臺階覆蓋優良、使用范圍廣、設備簡單等優點,工業領域已廣泛應用于SiC、TaC、HfC、PyC等多種薄膜涂層制備。北方華創憑借深厚的CVD工藝控制技術、真空熱工技術、氣流溫度耦合場仿真技術積累,致力于為半導體新材料、新能源光伏等領域開發多種類型的CVD設備。北方華創開發的先進PyC、SiC、BN、Re等涂層設備,憑借優秀的設備技術性能和工藝產能優勢,獲得國內行業主流客戶的高度認可,成為行業客戶擴產的優選設備。

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